Épurateurs d’Hélium

Impuretés retirées : O₂, H₂O, H₂

• Procédure de purification : adsorption + catalyse
• Principe : Le gaz passe par un catalyseur spécial et une couche d’adsorbant où les impuretés sont retirées.
• Principaux domaines d’utilisation : industrie des semi-conducteurs, gaz de soudage, gaz de protection…

Informations techniques :

• Débit : jusqu’à 5 000 Nm³/h
• Pression : jusqu’à 380 barg
• Taux d’impuretés à la sortie : < 10 ppb
• Version semi- automatique ou automatique (HMI/PLC)

Impuretés retirées : N₂, Ar, O₂, CO, CO₂, CH₄

• Procédure de purification : adsorption cryogénique
• Principe : Le gaz passe par une couche d’adsorbant à très basse température.
• Principaux domaines d’utilisation : industrie du gaz, industrie métallurgique, industrie du titane, industrie nucléaire….

Informations techniques :

• Débit : jusqu’à 5 000 Nm³/h
• Pression : jusqu’à 380 barg
• Taux d’impuretés à la sortie : < 10 ppb
• Version semi- automatique ou automatique (HMI/PLC)

Impureté retirée: H₂O

• Procédure de purification : adsorption
• Principe : Le gaz passe par une couche d’adsorbant où l’H₂O est piégée.
• Principaux domaines d’utilisation : Tous les procédés qui requièrent du gaz sec.

Informations techniques :

• Débit : jusqu’à 50 000 Nm³/h
• Pression : jusqu’à 380 barg
• Taux d’impuretés à la sortie : < 10 ppb
• Version semi- automatique ou automatique (HMI/PLC)